日本Savina MX擦拭布Minimax拭鏡布

日本Savina MX擦拭布Minimax拭鏡布

型號︰Savina Minimax

品牌︰KBSEIREN原KANEBO

原產地︰日本

單價︰-

最少訂量︰-

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產品描述

 

日本KBSEIREN Savina MX擦拭布

Savina Minimax是日本KBSEIREN株式會社(原KANEBO)開發的目前 的無塵擦拭布系列產品,吸水吸油性極強,不磨損原件。廣氾用於光學鏡頭製造,辦公器材保養,10級以上的無塵車間淨化室,半導體生產線車間等領域。cleanroom wiper

日本KANEBO公司生產的HITECLOTH 超細纖維無塵布是由Belima.X織成,其不規則的纖維排布組成適用於各種不規則物體的細微表面處理,不會掉絨毛,超柔軟布質及高度抗磨損特性可應用於精密儀器之保養

規格:24CM X 24CM

包裝:100/
高科技領域正日益精密和複雜。對於LSI和LCD等產品生產過程中所需的嚴格無塵環境而言,高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕鬆滿足時代需求,具有出色的功能,足以應對超級無塵室中的極端無塵條件。

無塵室中所使用的擦拭布應當能夠清潔所有儀器、器械和外圍設備,同時不會造成污染。擦拭布還要能夠吸收並清除多餘的水分。Savina MX具備此類擦拭布所需的所有屬性,是性能 擦拭布之一,專為高科技時代而設計。

超級高收縮、高密度整理產品

 

Savina MX的横截面

Savina MX的橫截面

Savina MX的表面

Savina MX的表面

Savina MX在專門的細針距針織機上編製而成,其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經任何粘合劑處理,就達到了這樣的緻密結構。所得擦拭布表面積高達25,700 c㎡/g,從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g

特 色

  • 掉毛量極少。
  • 迅速而積極地吸收並留住水分。
  • 殘留離子和其他物質的溶解率較低。
  • 具備高端的擦拭布性能(灰塵清除量 ,同時不會污染無塵室設備)。

用 途

用途

  • 光磁盤、硬盤和軟盤的生產過程
  • 液晶偏轉板以及其他物品的生產過程
  • 光盤和磁盤的生產過程
  • 錄像機的生產過程
  • 隱形眼鏡的生產過程
  • 相機裝配線
  • 印刷電路板的清潔工藝
  • 相機鏡頭鍍膜前的清潔工藝
  • 藥品生產線清潔工藝
  • 電影膠片清潔工藝
  • 半導體和基礎電路的生產過程
  • 精密塗層之前工件的清潔過程

產品圖片