日本KBSEIREN Savina MX擦拭布
Savina Minimax是日本KBSEIREN株式會社（原KANEBO）開發的目前 的無塵擦拭布系列產品，吸水吸油性極強，不磨損原件。廣氾用於光學鏡頭製造，辦公器材保養，10級以上的無塵車間淨化室，半導體生產線車間等領域。cleanroom wiper
日本KANEBO公司生產的HITECLOTH 超細纖維無塵布是由Belima.X織成，其不規則的纖維排布組成適用於各種不規則物體的細微表面處理，不會掉絨毛，超柔軟布質及高度抗磨損特性可應用於精密儀器之保養
規格：24CM X 24CM
包裝：100片/包
高科技領域正日益精密和複雜。對於LSI和LCD等產品生產過程中所需的嚴格無塵環境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕鬆滿足時代需求，具有出色的功能，足以應對超級無塵室中的極端無塵條件。
無塵室中所使用的擦拭布應當能夠清潔所有儀器、器械和外圍設備，同時不會造成污染。擦拭布還要能夠吸收並清除多餘的水分。Savina MX具備此類擦拭布所需的所有屬性，是性能 擦拭布之一，專為高科技時代而設計。
超級高收縮、高密度整理產品
Savina MX的橫截面
Savina MX的表面
Savina MX在專門的細針距針織機上編製而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達到其原始尺寸的40%。它未經任何粘合劑處理，就達到了這樣的緻密結構。所得擦拭布表面積高達25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g
特 色
- 掉毛量極少。
- 迅速而積極地吸收並留住水分。
- 殘留離子和其他物質的溶解率較低。
- 具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量 ，同時不會污染無塵室設備）。
用 途
- 光磁盤、硬盤和軟盤的生產過程
- 液晶偏轉板以及其他物品的生產過程
- 光盤和磁盤的生產過程
- 錄像機的生產過程
- 隱形眼鏡的生產過程
- 相機裝配線
- 印刷電路板的清潔工藝
- 相機鏡頭鍍膜前的清潔工藝
- 藥品生產線清潔工藝
- 電影膠片清潔工藝
- 半導體和基礎電路的生產過程
- 精密塗層之前工件的清潔過程
